（来源：上观新闻）
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第五，是否需要🇹🇴💙警惕2🇰🇲028年产能🐆🤹♂️集中释放导致的过🖥剩风险？ 以下🚞🧟♀️是关于上述五点的⌛👨💼具体分析：🇵🇸 存储双雄E⬆😀UV光刻机保有量🚡 日前，调🇵🇭👨研机构B🛶🇺🇲OFA公布了2🇬🇭📇021到2🇧🇫025年为止的E🛶UV光刻机数量9️⃣，如下所示： 👩⚕️🈸如图所示，🤤三星的EU👋🌷V 光刻机持有👿量已超过SK🖕👩🚒海力士👨🔧🏙的两倍，这一设备🦗数量优势直接映射👐到产能层面——在™🍩存储芯片制造🇶🇦中，光刻机部署⚖🍷密度是先进🇫🇷👨🏭制程产能释放🇾🇪的核心约束条件，⤴👨🦳而多层👩⚕️EUV光🕰刻更是10🇦🇽nm级以下工艺🔵👜量产的核心前提🇵🇾😠。
